化學(xué)機(jī)械拋光金剛石修整器

化學(xué)機(jī)械拋光金剛石修整器

文章編輯：鄭州中原拋光機(jī)械總廠  http://lexingchefu.com 

    修整器的性能要求十分嚴(yán)格，首先金剛石不能脫落，否則會(huì)劃傷晶圓表面；其次，金剛石分布要均勻，金剛石尖端必須朝上

，出刃高度一致。因此，采用真空釬焊和金剛石有序排列的制作方法比較合適。

    日本ASAHI(旭日)金剛石工業(yè)公司在研發(fā)金剛石化學(xué)機(jī)械拋光墊修整器過(guò)程中，采用規(guī)則均布金剛石技術(shù)，開發(fā)了三種類型

CMP修整器。

    (1)CMP-CS型修整器：金剛石用Ni，Cr胎體材料強(qiáng)力地化學(xué)結(jié)合把持，以防止金剛石脫落。金剛石在胎體材料上的分布具有重

復(fù)性，故其性能非常穩(wěn)定。

    (2)CMP-MEO-UP型修整器：其特點(diǎn)是金剛石規(guī)則均布。每顆金剛石由Ni基胎體單獨(dú)專門把持與固定，使金剛石的脫落減少到最

低程度。

    (3)CMP-NEO-U型修整器：其特點(diǎn)是，金剛石規(guī)則均布、金剛石出露高度可控、金剛石刃端定向排列一致。（如圖3）    

圖3 CMP-NEO-U修整器特點(diǎn)示意圖

    對(duì)金剛石化學(xué)機(jī)械拋光墊修整器的性能要求是：

    （1）不能有金剛石脫落，否則使晶圓表面產(chǎn)生劃痕、刮傷與瑕疵。

    （2）具有恒定的晶圓去除率，以保證拋光的質(zhì)量與穩(wěn)定。

    （3）必須有很長(zhǎng)壽命，因在晶圓拋光整個(gè)成本中，修整器所占比例最大。

    （4）批量生產(chǎn)中要求修整器穩(wěn)定如一。

     為滿足上述要求，金剛石修整器的設(shè)計(jì)應(yīng)具有以下特點(diǎn)：

    （1）不能脫落。

    （2）金剛石磨料分布有適當(dāng)?shù)拈g距。

    （3）金剛石拋光磨料凸出必須處在同一水平。

    （4）金剛石晶粒必須充分暴露。

    （5）金剛石胎體金屬必須耐磨與防浸蝕。

     以下介紹兩種國(guó)外修整器

    （1）韓國(guó)新韓公司低密度型DET-M修整器    

    （2）臺(tái)灣KINIK公司新型PCD修整器

    臺(tái)灣KINIK公司金剛石修整器的設(shè)計(jì)特點(diǎn)由圖4充分顯示與說(shuō)明。金剛石以固定的間距按預(yù)先設(shè)計(jì)模式(Diamond Grid)排列，

金剛石突出高度與水平都嚴(yán)格控制，整個(gè)表面鍍覆一層不易損壞的納米金剛石保護(hù)層(Diamond Shield)，防止酸性沖洗液對(duì)基體

金屬的浸蝕和沖洗液中溶融的金屬銅對(duì)芯片電路的損害。

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